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800W 1000W 1200W 808NM 1064NM 755NM 940NMレーザーダイオードスタックエミッターダイオードレーザー脱毛機ハンドル用ベアチップ

800W 1000W 1200W 808NM 1064NM 755NM 940NMレーザーダイオードスタックエミッターダイオードレーザー脱毛機ハンドル用ベアチップ

モデル番号:upp
出力波長:808\/1064\/755\/940オプションNM
波長:±15 nm
バー数量:80\/10\/12 PC
ピーク電力:800\/1000\/1200 w
バー間隔:2.95m
光サイズ:10*20.7\/10*26.6\/10*23.8 mm x mm
発散の天使:31度以下の高速。8度以下の遅い
波長:drigt係数0。28nm\/度
光コリメーション:カスタマイズ可能 \/
動作電流:120以下の典型的な値95 a
作業電圧:1.8\/bar v
しきい値電流:19以下a
バーあたりの勾配効率:1.1以上
電力変換効率:25 0%デューティサイクル:3 0以下30%未満または20%パルス幅:1〜100ミリ秒の幅:1〜10 HWATER品質:蒸留水または脱イオイオン水(ろ過システム未満または30um〜0.4程度の水排出:3〜4.5 lpm

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製品説明

仕様

出力波長:808\/1064\/755\/940オプションNM
波長:±15 nm
バー数量:80 10 12 PCS
ピークパワー:800 1000 1200 w
バー間隔:2。95 2。95 2。95m
光サイズ:10*20。7 10*26。6 10*23.8 mm x mm
発散の天使:31度以下の高速。8度以下の遅い
波長:drigt係数0。28nm\/度
光コリメーション:カスタマイズ可能 \/
動作電流:120以下の典型的な値95 a
作業電圧:1.8\/bar v
しきい値電流:19以下a
バーあたりの勾配効率:1.1以上
電力変換効率:250%
デューティサイクル:20%以下30未満または20%以下
パルス幅:1〜100ミリ秒
周波数:1〜10 Hz
水質:蒸留水または脱イオン水(ろ過システムは30um以下) \/
水温:18〜28度
水圧:{{0}}} 。3〜0.4 mpa
排水:3〜4.5 lpm

 

製品説明

製品機能:
1.ゴールドティンパッケージ。
2.高い信頼性と安定性。
3.標準産業構造。
4.顧客アプリケーション条件の範囲の範囲。
5.コリメーションを追加できます。
主なアプリケーション:
1.レーザー脱毛。
2.ポンピング。
3.レーザー照明。

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垂直および水平ダイオードレーザースタックと2次元アレイは、ポンプ、指示されたエネルギー、脱毛、および材料処理用のマルチkW範囲に電力を供給します。

連続波(CW)スタック - マイクロチャネル冷却とそれを使用して、高出力で最適な熱管理を可能にします。
パルススタック - 伝導冷却と水道水冷オプションを備えたQCWを長いパルス条件に覆います。
最も広い波長範囲 - 638 nmから2200 nmまでの範囲には、すべての主要な固体および繊維レーザーポンプの波長と、防御、材料処理、医療美学に使用される波長が含まれます。

 

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連絡先の詳細:

アイデアがある場合は、お問い合わせください。顧客がどこにいて、要件が何であれ、私たちは顧客に高品質、低価格、最高のサービスを供給するという目標に従います。

product-1-1電子メール:info@loshield.com

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